Фоторезист МПФ-ВЩ-50 300Х1000мм

157 

Фоторезист сухой пленочный МПФ-ВЩ водно-щелочного проявления

199 в наличии

Артикул: 38 Категория:

Описание

Фоторезист сухой пленочный МПФ-ВЩ водно-щелочного проявления производится по ТУ 6-43-1568-93.
Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления ПФ-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации, однослойных или многослойных печатных плат по негативной или позитивной технологии.
Фоторезист представляет собой слой несеребреного светочувствительного материала,
нанесенного на полиэтилентерефталатную пленочную основу. Поверхность светочувствительного слоя
защищена полиэтиленовой пленкой, которая удаляется перед началом работ с фоторезистом.
Гальваностойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает качественное осаждение слоя металла
из электролита с рН менее 7. Химическая стойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает обработку в растворах с рН до 10 в течение минуты и более при температуре раствора 18-25°С.

Детали

Вес 95 г
Габариты 320 × 45 × 45 мм

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Фоторезист МПФ-ВЩ-50 300Х1000мм”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Этот сайт использует Akismet для борьбы со спамом. Узнайте, как обрабатываются ваши данные комментариев.